虚幻5Lightmass烘焙表现·不完全测试2·关卡篇
这个章节我搭建了一个供调试的场景，在不改变场景中物体的情况下，只控制世界场景设置中的Lightmass参数来改变烘焙效果。
光照情境与可见性
要设置光照情境和可见性需要在“窗口”菜单栏中找到“关卡”，有多个关卡时需要考虑在烘焙关卡前设置。
通常将带有静态场景的需要烘焙光照的关卡点亮光照情境。这时进行烘焙就只会计算点亮了光照情境的关卡屏蔽其他关卡。如果只想选择其中一个关卡进行烘焙则可以把其他点亮光照情境关卡的可见性关闭。
世界场景Lightmass参数
需要通过“窗口”菜单栏打开“世界场景设置”，内容较多也很重要。
1.静态光照等级
光照贴图烘焙采样时，计算物体的空间尺寸的倍率，数值越高烘焙效果越粗糙，但是速度越快。另外还要注意本身项目中使用的尺度是否遵循现实。
建议参数：1.0
具体效果👇
参数：2.0
参数：1.0
2.间接光照反射数
光源组件产生的间接光的反射次数，随着反射次数升高光线在传播过程中能量降低，因此反射次数每一级提升效果都会衰减，1-2的提升最大，越高提升越小，9-10几乎没有提升。所以不需要无脑拉最高，适当就行。
建议参数：4~6
具体效果👇
参数：1
参数：5
参数：10
3.天空光照反射数
SkyLight天光和自发光物体的反射次数，和间接光反射数的表现逻辑相似，但开销逻辑不通，开销与反射次数成正比。能显著提升暗部水平，但有些时候会矫枉过正导致暗部过亮。这时可以用环境光遮蔽来配合调整（后面会提到）。
建议参数：2~4
具体效果👇
参数：1
参数：5
参数：10
4.间接光照平滑度
平滑过渡间接光照效果，一般不用动。太高会削弱间接光照效果。
建议参数：1.0
具体效果👇
参数：1.0
参数：4.0
5.使用环境光遮蔽
将AO烘焙到光照贴图中，固定和动态物体不会造成影响，可以和后处理的AO一起使用。
建议：开启
具体效果👇
AO：关
AO：开
AO的细节参数需要开启AO后才可调整，各个参数的效果这里不一一展示。
6.体积光照贴图细节单元大小
体积光照贴图影响静态物体周围的固定和动态物体，数值越大，固定和动态物体的间接光照细节越低。
建议参数：150~200
具体效果👇
参数：150
参数：300
看效果需要打开体积光照贴图的可见性。
6.1.体积光照贴图最大砖块内存
引擎自动剔除小球的功能限制，场景过大可能导致部分地方的小球被剔除，这时需要提高内存进行规避。
建议参数：50~100
7.封装光源和阴影贴图纹理大小
Lightmap和Shadowmap的组合大小，需要根据当前场景中物体设置的实际光照贴图大小来定，太大可能造成更多的浪费，太小可能一张图装不下，没有深入测试过，理论上2048是一个比较合适的大小。
建议参数：2048
