虚幻5Lightmass烘焙表现·不完全测试1·全局篇
前言
这篇测试是在项目制作过程中进行的测试，整理在这里是为了做个记录，也方便路过的朋友们参考，具体效果请自行测试不可盲目遵从。首先测试的版本是5.3，光照烘焙方法是原来的Lightmass功能而不是GPULightmass，由于项目的原因测试的视角大部分属于Topdown，其他视角下的效果可能并不一致，并且既然是Lightmass的全局光照那么就需要完全关闭Lumen，不然效果也会被Lumen覆盖。
影响Lightmass烘焙效果的因素由整体到局部分为几个部分：项目设置、世界设置里的Lightmass参数、光照相关的组件和体积。因此这个系列也会以这样的逻辑顺序更新章节，分成三个部分。
正片开始前声明一点，本系列内容只涉及到如何使用和具体表现的内容，不会展开讲解每个参数背后的原理，更不会讲UE光照系统的底层逻辑（交给更专业的人），本系列只讲实用主义。
展示一下测试前后的同个场景截图：
项目设置部分
这个部分展示项目设置中影响全局光照烘焙的地方，修改这些会影响到所有场景的烘焙效果。
1.Lightmass总开关
1.允许静态光照（Allow Static Lighting） —— 在项目设置→渲染中找到。
2.世界分区（World Partition）关卡限制 —— 引擎 CVar r.AllowStaticLightingInWorldPartitionMaps 默认值就是 0，即 WP 关卡默认禁止静态光照。
2.动态全局光
为了使用Lightmass，我们需要先关闭默认开启的Lumen。
3.阴影贴图方法
把默认的虚拟阴影贴图改为阴影贴图。
4.光照质量
在上方工具栏的构建一栏中，可以选择烘焙光照的整体质量，根据不同阶段自行选择。
建议：大效果阶段用“中”，最终效果用“产品级别”。
具体效果👇
预览级别
产品级别
项目全局的设置部分内容不多，这里只涉及到影响光照构建的因素，其他诸如反射捕获等内容这里暂不讨论。需要特别注意GPULightmass的烘焙方案不在本文讨论的范围，修改的参数不会造成任何影响。